多弧離子真空鍍膜機作為離子鍍膜機產品種類中的一種，電弧蒸發是離子鍍膜機的重要特點之一，多弧離子真空鍍膜機也不例外。
    電弧蒸發源礦業是Ti,AI,Zr,Cr等單相靶材，也可以是它們組成的多相靶材。多弧離子真空鍍膜機的應用非常寬廣，實用性能很強。除了有多種其他的離子鍍法外，尤其是在高速鋼切削工具及應用程序等超硬鍍TiN膜的快速發展，使得進入產業化階段。多弧離子真空鍍膜機是現在用于表面涂裝PVD膜層專用設備，通過自動化的邏輯程序設計控制操作。多弧離子真空鍍膜機的外觀簡單優雅，設備內部結構設計合理穩定，操作簡單易上手。多弧離子真空鍍膜機還具有環保節能的特點，是一款真正意義上的無三廢、無污染的清潔生產設備。
離子鍍膜機在光學上面的發展

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