1.鍍材
    傳統(tǒng)的蒸發(fā)鍍膜是將鍍材融化之后在附著到產(chǎn)品表面，這就導致了蒸發(fā)鍍膜設備中只能使用熔點較低的鍍材進行鍍膜。而磁控濺射鍍膜設備找那個是通過氬離子高速轟擊鍍材濺射出的物質(zhì)來鍍膜，所以沒有熔點和材質(zhì)的限制，幾乎所有固體的材料都可以成為磁控濺射鍍膜設備的鍍材。

連續(xù)磁控鍍膜生產(chǎn)線

    2.穩(wěn)定
    磁控濺射鍍膜設備鍍膜的厚度跟導致氬離子射出的電流大小存在著很大的關系，所以在磁控濺射鍍膜設備內(nèi)只需要把電流的大小控制住就可以自由控制鍍膜的厚度，不會出現(xiàn)任何偏差。
    3.緊密
    在濺射鍍膜的過程中，氬離子的部分電子會和鍍膜表面產(chǎn)生撞擊，產(chǎn)生的熱能會更多，從而能使得鍍材的原子和被鍍膜產(chǎn)品結(jié)合得更加緊密。
    磁控濺射鍍膜設備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢

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